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Cassification
更新时间:2026-07-16
浏览次数:13在半导体制造、液晶面板生产及精密镀膜等对洁净度要求高的工艺场景中,真空系统的油污染问题直接关系到产品良率。传统的机械增压泵(罗茨泵)通过轴封与电机连接,长期使用后密封件磨损会导致润滑油泄漏,污染真空环境。爱发科(ULVAC)PRC系列密闭式电机罗茨泵针对这一行业痛点开发,其中PRC-003A作为该系列的入门型号,依托屏蔽电机无轴封设计与无油容积式压缩两大核心技术,为半导体、液晶制造等洁净工艺提供了可靠的真空增压方案。
PRC-003A的核心工作原理建立在8字形转子无油容积式压缩与屏蔽电机无轴封设计两大技术之上。
8字形转子无油容积式压缩
罗茨泵本质上是一种容积式真空泵——通过两个8字形转子在泵腔内同步反向旋转,实现气体的输送与压缩。泵的核心运动部件由两个精密加工的三叶罗茨转子组成,由高精度齿轮传动保持严格的同步。
当转子旋转时,气体从进气口被吸入转子与泵壳之间的空间,随着转子的转动,气体被隔离并推向排气口。在此过程中,气体体积被压缩,压力升高,从而实现排气功能。转子之间以及转子与泵壳之间始终保持0.1至0.3毫米的微小间隙,彼此不接触。由于转子室内不需要润滑油,因此能够实现油蒸气污染少的真空排气。
屏蔽电机无轴封设计
PRC系列的核心技术突破在于屏蔽电机(密闭式电机) 的应用。传统罗茨泵的电机通常通过轴封与真空环境隔离,但这些机械密封件长期使用后难免出现磨损,导致润滑油泄漏。PRC-003A采用屏蔽式三相异步电动机,通过封闭的设计消除了大气/真空的机械密封。电机与泵腔之间形成物理隔离,用户可以在清洁的环境中使用,不用担心漏油问题。电机内部线圈采用专门的绝缘材料,能够抵抗油蒸汽和化学气体的侵蚀。
1. 无油洁净,适配半导体洁净工艺
PRC-003A的气体接触区域不使用任何油类介质——转子室内无需润滑油,泵壳室内也没有润滑油。即使面对水蒸气、溶剂等气体也能发挥稳定的排气性能。这一特性使其在半导体、液晶制造等对油污染敏感的工艺中尤为重要。配合屏蔽电机设计从根源上杜绝了轴封漏油问题,为洁净真空环境提供了双重保障。
2. 280m³/h抽速,适配中等规模真空系统
PRC-003A在50Hz工况下的最大抽速为280m³/h。作为罗茨泵,它需要与油旋片真空泵或干式泵等前级泵(粗抽泵)串联使用。在前级泵抽速下降的压力范围内(约1.3×10³~1.3×10⁻¹Pa),罗茨泵可显著提高整个系统的抽速。这一特性使其适用于半导体制造设备、液晶面板产线及真空镀膜系统等中等规模真空系统。
3. 极限压力满足工艺要求
PRC-003A的极限压力可达4.0×10⁻¹Pa。与油旋片泵或干泵组合使用后,整个真空系统可在较宽的压力范围内实现高效率排气。配合其无油洁净特性,在半导体、液晶制造等对洁净度和真空度均有要求的工艺中表现突出。
4. 大吸气压力下的稳定运转
PRC-003A的最大吸气压力为1.2×10³Pa。这一特性使其可在较高的吸气压力下稳定运转,与标准型罗茨泵相比,可有效缩短系统的整体排气时间。
5. 水冷散热,保障长期稳定运行
PRC系列全部采用水冷冷却方式,功率为0.75kW。水冷设计可确保在长时间连续运行和高温工艺环境下泵体的热平衡,保障设备的长期稳定性和可靠性。
6. 可选手动/自动大气压驱动
PRC-003A可根据需求选择手动或自动大气压驱动型。通过安装变频器,罗茨泵可在整个压力范围内运行,大幅缩短排气时间。由于可与前级低真空泵同时启动,与标准型相比能有效缩短排气时间,提高生产效率。
7. 阳极氧化表面处理(可选)
罗茨泵的主要部件可进行阳极氧化处理,表面硬度高,耐腐蚀性优异,能有效防止泵内部划伤和腐蚀。对于处理腐蚀性气体的应用环境,这一特性显著延长了泵的使用寿命。
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 最大抽速(50Hz) | 280 m³/h |
| 最大吸气压力 | 1.2×10³ Pa |
| 极限压力 | 4.0×10⁻¹ Pa |
| 电机类型 | 屏蔽式三相异步电动机 |
| 电机功率 | 0.75 kW |
| 冷却方式 | 水冷 |
| 适用标准 | CE(可选) |
数据来源:爱发科产品规格表
半导体制造:用于半导体制造设备的真空系统,在洁净无油的环境下提升中真空范围的抽速。
液晶面板制造:用于液晶面板生产线的真空排气系统,配合前级泵实现高效率排气。
真空镀膜:用于溅射、蒸镀等真空镀膜设备的真空增压,提升系统在镀膜压力区间的排气效率。
真空冶金:用于真空熔炼、真空热处理等冶金工艺的真空系统。
真空干燥与脱气:用于真空干燥、真空脱气等工艺,配合前级泵提升系统抽速。
真空包装:用于大型真空包装设备的真空系统。
PRC-003A是爱发科在洁净型密闭式电机罗茨泵领域的一款代表性产品。通过8字形转子无油容积式压缩机制与屏蔽电机无轴封设计的配合,在实现280m³/h(50Hz)最大抽速和4.0×10⁻¹Pa极限压力的同时,从根源上杜绝了油蒸气和轴封漏油对真空环境的污染。其水冷散热、可选大气压驱动、阳极氧化表面处理等特性,使其成为半导体制造、液晶面板生产及真空镀膜等对洁净度有严格要求的工艺场景中可靠的真空增压方案。
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