日本爱发科ULVAC正式发布GLD-N280双级油旋片真空泵上新

更新时间：2026-07-18

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日本爱发科ULVAC正式发布GLD-N280双级油旋片真空泵上新

日本爱发科ULVAC正式发布GLD-N280双级油旋片真空泵上新，以高效真空技术赋能半导体与工业制造领域

全球真空技术综合解决方案供应商日本爱发科（ULVAC）今日正式面向中国市场推出GLD-N280双级油旋片式真空泵。作为GLD-N系列中的中大抽速代表机型，GLD-N280延续了爱发科在油旋片泵领域数十年的技术积累，依托两级排气系统与强制供油机构两大核心技术，以336L/min抽速、0.67Pa极限真空度、低噪音运行等综合性能，成为面向半导体镀膜、真空热处理、制冷行业及中等规模工业真空应用的可靠选择。

强劲抽速与高真空度的平衡

GLD-N280采用两级排气系统设计，两个排气腔串联工作。相比单级排气系统，双级结构可获得更低的极限压力（更高的真空度）。气体首先进入第一级泵腔被初步压缩，随后进入第二级泵腔进一步压缩至大气压以上并排出泵外。50Hz电源条件下几何抽速达336L/min，60Hz条件下达400L/min。极限压力在气镇阀关闭状态下可达0.67Pa，气镇阀开启状态下为6.7Pa。这一性能指标可满足真空镀膜、真空热处理、分析仪器等多数工业中低真空工艺对真空度和抽速的双重要求。

应对可凝性蒸汽的气镇阀配置

GLD-N280配备的气镇阀是该型号的关键功能配置之一。在抽除含有水蒸气等可凝性气体的工况时，开启气镇阀可向泵腔引入少量干燥空气，提高混合气体的露点，使水蒸气在排气阀打开之前不会凝结。这一设计有效防止水蒸气在压缩过程中与真空油混合形成乳化液，避免油品污染和泵体腐蚀，显著延长泵油更换周期和设备使用寿命。用户可根据工艺气体成分灵活切换气镇阀开闭，在真空度与耐污染性之间取得平衡。

防逆流机构保障设备安全

GLD-N280内置防逆流机构，在因停电等突发情况停机时自动切断油路，有效防止真空油返流至被抽真空腔室。对于半导体镀膜、真空热处理等对腔体洁净度有要求的工艺，这一设计可避免因油污染导致的工艺缺陷和设备损失。

强制供油机构与稳定排气

GLD-N280搭载强制供油机构，可确保排气速度长期稳定。无论在大气压启动阶段还是在高真空运行阶段，都能保障旋片与泵腔内壁的充分润滑与密封。该泵支持直接在大气压下启动，无需预抽即可开始工作。使用油品为ULVOIL R-7，所需油量为0.75～1.5L。

低噪音低振动运行

GLD-N280延续了GLD系列低噪音、低振动的家族特性。通过精密动平衡调校与优化的减震结构设计，实现安静平稳运行，可直接部署于对噪音和振动敏感的生产与实验环境。大尺寸油位视窗便于操作人员直观观察泵油量与污染状态，及时进行维护。

宽电压适配与灵活选型

GLD-N280搭载宽电压马达，支持三相200/380/400/415V（50Hz）及三相200/220/380/400/440V（60Hz）等多种电源规格，符合国际标准，可适配全球不同国家和地区的电网标准。吸气口径为KF-25标准接口，排气口径为G1。整机重量34.5kg，外形尺寸181×536×269mm，使用环境温度范围为7～40℃。

多元应用场景

GLD-N280广泛应用于半导体镀膜、真空热处理、制冷行业、分析仪器及科研实验等领域：在半导体制造中用于溅射、蒸镀等镀膜工艺的真空系统；在真空炉、真空钎焊、真空退火等热处理设备中完成快速抽真空；在空调、冰箱等制冷设备生产线中用于抽真空和检漏工艺；作为质谱仪、电子显微镜等精密分析仪器的真空源；在高校及科研院所的中等规模真空实验装置中配套使用。

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