日本爱发科MS120A螺杆型干式真空泵技术介绍

更新时间：2026-07-16

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日本爱发科MS120A螺杆型干式真空泵技术介绍

爱发科MS120A螺杆型干式真空泵技术介绍：双螺杆无油压缩原理与耐腐蚀工艺应用

在半导体刻蚀、光伏镀膜、平板显示及化学工业等涉及腐蚀性气体和粉尘排出的工艺场景中介绍，真空泵不仅需要提供洁净无油的真空环境，还需具备耐受化学侵蚀和颗粒物冲击的能力。爱发科（ULVAC）MS120A螺杆型干式真空泵作为MS系列的代表型号，在LS系列的基础上针对耐腐蚀性和粉末排出性能进行了专项提升，依托双螺杆无油容积式压缩技术，以耐腐蚀气体、高粉尘排出能力、115m³/h最大抽速等特性，成为面向严苛工艺环境的可靠真空获取方案。

一、工作原理：双螺杆非接触式容积压缩

MS120A的核心工作原理建立在双螺杆非接触式容积压缩这一物理机制之上。它本质上是一种干式容积真空泵——通过两根平行啮合的螺杆转子同步反向旋转，周期性地改变转子与泵壳之间形成的封闭腔体容积，实现气体的吸入、压缩与排出。

泵的核心运动部件由两根精密加工的双螺杆转子组成：

非接触式运转：两根螺杆转子在同步齿轮的驱动下以相反方向高速旋转，转子之间以及转子与泵壳之间始终保持微米级的微小间隙，无需任何润滑油作为密封介质。这一设计从根源上杜绝了油蒸气的产生与返流。
容积式压缩：随着转子旋转，气体由进气口被吸入后，在螺杆螺旋槽与泵壳之间形成的封闭腔体中沿轴向连续传递。腔体容积沿输送方向逐渐缩小，气体被逐级压缩，最终从排气口排出。
无油密封与冷却：轴承和齿轮等旋转部件的润滑油通过精密轴封严格隔离，确保气体接触区域不接触任何油类介质。泵体采用强制冷却系统，保障在高温和腐蚀性工艺环境下的稳定运行。
耐腐蚀性提升：MS120A在传统LS系列的基础上进行了专项升级——对转子轴等核心部件进行了表面处理和材料优化，使其能够耐受腐蚀性气体的化学侵蚀。同时优化了排气通道设计，提升了粉末排出性能，有效防止颗粒物在泵内积聚。

二、核心技术特点

1. 耐腐蚀设计，适配严苛工艺

MS120A专门针对使用腐蚀性气体和产生粉尘的工艺进行了优化设计。半导体刻蚀、CVD等工艺中常涉及氟化物、氯化物等腐蚀性气体，这些气体对普通真空泵的金属部件具有强侵蚀性。MS120A通过对气体接触部件的表面处理和材料选型，有效延长了在腐蚀性环境中的使用寿命。同时，优化的流道设计使工艺过程中产生的粉末颗粒能够顺畅排出，避免在泵腔内壁和转子表面的附着与堆积。

2. 高抽速，适配批量生产节奏

MS120A在50Hz电源条件下的最大排气速度达115m³/h，在同级螺杆干泵中处于较高水平。这一抽速可适配中型刻蚀设备、CVD设备及批量生产型真空系统，在较短时间内完成腔体抽空，满足产线节拍要求。

3. 极限压力满足工艺需求

MS120A的极限压力为≤0.6Pa，可满足刻蚀、CVD等工艺对基础真空度的要求。配合其耐腐蚀和耐粉尘设计，在含腐蚀性气体和颗粒物的工艺环境中仍能保持稳定的真空性能。

4. 宽电压适配与低运行成本

MS120A搭载宽电压马达，支持200V级（三相，50/60Hz，AC200-240V±10%）和400V级（三相，50/60Hz，AC380-480V±10%）两种电源规格，可适配全球不同国家和地区的电网标准。在运行成本方面，MS120A无需轴封密封气体，减少了辅助气体的消耗。

5. 维护便捷性

MS系列在产品设计上充分考虑了维护的便利性。气体接触区域不使用油类介质，无需进行定期的真空油更换和油位检查。对于需要长期连续运行的工业产线，这一特性显著降低了日常维护工作量和备件消耗。

三、性能参数一览

参数	MS120A
最大排气速度	115 m³/h
极限压力	≤0.6 Pa
电源电压	200V级：三相，50/60Hz，AC200-240V±10%
电源电压	400V级：三相，50/60Hz，AC380-480V±10%
系列定位	耐腐蚀型螺杆干泵

数据来源：爱发科产品规格表

四、典型应用场景

半导体刻蚀：在等离子刻蚀工艺中，MS120A的耐腐蚀设计可有效应对含氟、含氯等腐蚀性工艺气体的排气需求，同时其粉末排出能力可处理刻蚀过程中产生的副产物颗粒。

半导体CVD：用于化学气相沉积设备的真空排气，处理含有腐蚀性前驱体气体的工艺环境。

光伏制造：用于光伏电池片镀膜等工艺的真空系统，应对工艺中可能产生的腐蚀性气体和粉尘。

平板显示制造：适用于FPD制造中的沉积和刻蚀工艺，为洁净真空环境提供可靠保障。

化学工业：用于化工生产中的真空蒸馏、干燥等涉及腐蚀性介质的工艺。

一般工业镀膜：适用于各类工业级真空镀膜设备的排气，尤其适合含有腐蚀性气氛的工艺场景。

五、总结

MS120A是爱发科在耐腐蚀型螺杆干式真空泵领域的一款代表性产品。通过双螺杆非接触式容积压缩机制与耐腐蚀表面处理技术的配合，在实现115m³/h最大抽速和≤0.6Pa极限压力的同时，有效解决了半导体刻蚀、CVD等工艺中腐蚀性气体和粉尘排出对真空泵的严苛要求。其宽电压适配、无油洁净运行等特性，使其成为半导体刻蚀、CVD、光伏镀膜及平板显示制造等含腐蚀性气体和粉尘工艺场景中可靠的真空获取方案。

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